1.用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品，有高温耐磨的实用价值。
2.用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。
1、摩尔折射率：无可用
2、 摩尔体积（cm3/mol）： 无可用
3、 等张比容（90.2K）：无可用
4、 表面张力（dyne/cm）：无可用
密封于阴凉干燥处。
1.氯化铬与硼(或氧化硼)的混合物用金属镁于650℃还原制得。
2.铬与适量硼粉在真空或惰性气氛中于1600℃下加热或在1150℃烧结48～72h,有硼化铬CrB、Cr2B、Cr3B2、Cr3B4、CrB2形成，于高温下热压后，可形成CrB2、CrB或Cr3B4。
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