用于耐磨件的耐磨涂层及半导体薄膜
1、摩尔折射率：无可用
2、 摩尔体积（cm3/mol）：无可用
3、 等张比容（90.2K）：无可用
4、 表面张力（dyne/cm）：无可用
5、 极化率：无可用
密闭于阴凉干燥环境中
1.以金属钨和硼为原料，将两者充分混合、研磨，在1400℃以上加热反应得WB。继续反应生成W2B，经冷却、粉碎得产品。
2.钨与化学计量的硼粉按W∶B=2∶1的摩尔比混合，在真空或氩气氛中于1200～1300℃烧结，可制得一硼化二钨。
3.采用固相法。以金属钨和硼为原料制备硼化钨，反应式如下。将化学计量的金属钨粉和元素硼充分混合、研磨、成型，在1400℃以上加热反应得ＷＢ。继续反应生成Ｗ２Ｂ，经冷却、粉碎得产品。
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将化学计量的金属钨粉和元素硼充分混合、研磨、成型，在1400℃以上加热反应得ＷＢ。继续反应生成Ｗ２Ｂ，经冷却、粉碎得产品。
