XAD-200是一款全元素上照式全自动X荧光光谱仪，既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的膜厚性能，又可满足RoHS有害元素检测及成分分析，搭载全自动平台实现三维坐标编程位移，实现无人值守多点测量，测量软件置入公司自研的EFP算法及解谱技术，解决了诸多业界难题。被广泛用于各类产品的质量管控、来料检验和对生产工艺控制的测量使用。

搭载微聚焦加强型X射线发生器和先进的光路转换聚焦系统，最小测量面积达0.03mm²

拥有无损变焦检测技术，手动变焦功能，可对各种异形凹槽件进行无损检测，凹槽深度范围0-90mm

核心EFP算法，可对多层多元素，包括同种元素在不同层都可快、准、稳的做出数据分析（钕铁硼磁铁上Ni/Cu/Ni/FeNdB，精准检测第一层Ni和第三层Ni的厚度）

配备全自动可编程移动平台，可实现无人值守，对成百上千个样品进行全自动检测

涂镀层分析范围：锂Li（3）- 铀U（92）

成分分析范围：铝Al（13）- 铀U（92）

RoHS、卤素有害元素检测

人性化封闭软件，自动判断故障提示校正及操作步骤，避免误操作

标配四准直器自动切换

配有微光聚集技术，最近测距光斑扩散度小于10%