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铝合金化学抛光原理与配置方法介绍

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    铝合金化学抛光的原理‌是通过在酸性或碱性电解质溶液中利用铝和铝合金的选择性自溶解作用,整平抛光工件表面,以降低其表面粗糙度。具体来说,化学抛光是通过添加无烟两酸抛光剂等抛光溶液,利用工件在抛光过程中由于扩散控制而形成的氧化膜层或置换层,并通过这些膜层的形成速率与溶解速率的差异来达到抛光效果‌。


具体过程如下:
  1. 氧化膜形成:抛光液中的氧化剂(如硝酸、磷酸)使铝表面生成氧化膜。

  2. 溶解氧化膜:酸(如磷酸、硫酸)溶解氧化膜,露出新的铝层。

  3. 循环反应:氧化和溶解反复进行,逐步去除表面凹凸,达到平滑效果。

关键因素

  • 抛光液成分:常用硝酸、磷酸、硫酸等,比例影响抛光效果。

  • 温度:通常在50-100°C之间,温度过高或过低都会影响抛光质量。

  • 时间:时间过短抛光不充分,过长则可能过度腐蚀。

优点

  • 均匀性:适合复杂形状工件。

  • 效率:处理速度快,适合大批量生产。

缺点

  • 环保问题:抛光液可能含有有害物质,需妥善处理。

  • 成本:抛光液消耗较大,成本较高。

总结来说,铝合金化学抛光通过氧化和溶解的循环反应实现表面平滑,需控制好抛光液成分、温度和时间。

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