研磨剂、清洗剂、抛光液培训教材
一、研磨剂:
用磨料、分散剂(又称研磨液)和辅助材料制成的混合剂,(习惯上也列为磨具的一类)研磨剂用于研磨和抛光,使用时磨粒呈自由状态。由于分散剂和辅助材料的成分和配合比例不同,研磨剂有液态、膏状和固体的3 种。液态研磨剂不需要稀释即可直接使用。膏状的常称作研磨膏,可直接使用或加研磨液稀释后使用,用油稀释的称为油溶性研磨膏;用水稀释的称为水溶性研磨膏。固体研磨剂(研磨皂)常温时呈块状,可直接使用或加研磨液稀释后使用。研磨剂中的磨料起切削作用,常用的磨料有刚玉、碳化硅、碳化硼和人造金刚石等。精研和抛光时还用软磨料,如氧化铁、氧化铬和氧化铈等。分散剂使磨料均匀分散在研磨剂中,并起稀释、润滑和冷却等作用,常用的有煤油、机油、动物油、甘油、酒精和水等。辅助材料主要是混合脂,常由硬脂酸、脂肪酸、环氧乙烷、三乙醇胺、石蜡、油酸和十六醇等中的几种材料配成,在研磨过程中起乳化、润滑和吸附作用,并促使工件表面产生化学变化,生成易脱落的氧化膜或硫化膜,借以提高加工效率。此外,辅助材料中还有着色剂、防腐剂和芳香剂等(研磨液是由多种化工活性剂和功能性助剂配制而成的溶液,它具有无毒、无腐蚀,不易变质等性能,在抛光工艺中有重要的地位。抛光液的种类很多,应根据加工条件来选择,合理选择抛光液,能使加工出来的工件表面光亮美观、色泽鲜艳,可以防止工件的锈蚀,保持与提高工件表面的光泽,起到清洗工件与磨具的作用。抛光液还可以去除油污,软化工件表面以加速磨削,减少磨具对工件的冲击,改善工作条件。在光整效率、工件的研磨质量、抛光的光亮度等方面,抛光液都显示出其独特的效果)。
光饰机 | 处理材质 | 抛磨块 | 形态 | 酸碱值 pH | 添 加 量(g/L) | 研磨 | 抛 光 | 研磨 性能 | 抛光 性能 | 清洗性能 | 防锈性能 | 泡沫性 | 粗糙度 | 磨削力 | 包装 | |
LM-10 | 行星式振动式流动式滚筒式 | 不锈钢铁、铜、锌、铝 | 粗精抛 磨块 | 液体 | 11-13 | 3-15 | ++ | + | + | + | + | | + | + | + | 50 或 25kg 塑料桶 |
LM-12 | 行星式振动式流动式滚筒式 | 铁、铜、铝 | 粗精抛 磨块 | 液体 | 2-3 | 3-15 | ++ | + | ++ | + | ++ | + | + | + | + | 50 或 25kg 塑料桶 |
LM-8A | 行星式振动式流动式滚筒式 | 不锈钢 铜、铝 | 粗抛磨块 | 液体 | 1-2 | 3-10 | ++ | + | ++ | ++ | ++ | + | ++ | + | + | 50 或 25kg 塑料桶 |
LM-8B | 行星式振动式滚筒式 | 不锈钢铁、铜、铝铆钉 | 精抛磨块或铆钉自磨 | 液体 | 2-3 | 3 -15 | ● | ++ | | + | + | | + | ++ | | 50 或 25kg 塑料桶 |
二、清洗剂
常用的化学清洗药剂可有不同的分类方法。例如按其化学组成可分为无机化学清洗剂和有机化学清洗剂;按其中有的清洗剂可能对不同的污垢有不同的作用,或对同一种污垢具有两种或两种以上的作用,则应按其在一般情况下的主要作用归类。
1.水和非水溶剂
污垢的溶剂是指那些能把清洗对象的污垢以溶解或分散的形式剥离下来,且没有稳定的、化学组成确定的新物质生成的物质。它包括水及非水溶剂。
(1)水:水是自然界存在的,也是最重要的溶剂。在工业清洗中,水既是多数化学清洗剂的溶剂,又是许多污垢的溶剂。在清洗中,凡是可以用水除去污垢的场合,就不用非水溶剂及各种添加剂。
(2)非水溶剂: 非水溶剂包括烃与卤化烃、醇、醚、酮、酯、酚等及其混合物于它主要用于溶解有机污垢,如油垢及某些有机化合物垢。
2.表面活性剂
其分子中同时具有亲水的极性基团与亲油的非极性基团,当它的加入量很少时,即能大大降低溶剂(一般是水)的表面张力以及液界面张力,并且具有润滑、增溶、乳化、分散和洗涤等作用。
表面活性剂有多种分类方法。普遍根据它在溶剂中的电离状态及亲水基团的离子类型分类。最常用的有阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂及非离子表面活性剂等。前三类为离子型表面活性剂。
表面活性剂在家庭生活及工业生产的清洗中,有广泛的用途。
3.酸-碱清洗剂
借助于和污垢发生酸碱反应(有时也伴有氧化-还原等反应),使污垢转变为可溶解或分散于清洗液的清洗剂,多为有机酸、无机酸、碱及水解后呈酸性或碱性的盐。
大多数酸—碱清洗剂都是由酸、碱的水溶液加必要的助剂组成的。另一类在高温条件下以熔融状态和污垢作用的酸或碱,使原来不溶解或难溶解于清洗介质中的污垢,转化为易溶解的化合物,这类酸与碱通常称为熔融剂。这种清洗剂对于用溶剂或溶液难以清除的污垢时,有良好的效果。
4.氧化-还原剂
主要借助与污垢发生氧化还原反应而清除污垢的制剂,即为清洗用氧化剂或还原剂,包括熔融剂。
氧化剂用以清除有还原性的污垢,如许多有机污垢。还原剂用于清除有氧化性的污垢,如锈垢。
5.金属离子螯合剂
借助与污垢中的金属离子发生配合反应,使污垢转变为易溶于清洗剂的螯合物,这种清洗剂或助剂即为螯合剂。它常用在锈垢及无机盐垢的清洗中。
6.吸附剂
通过对污垢的物理吸附或化学吸附而清除污垢的物质为清洗用的吸附剂。应选择对污垢有很强的亲和力的吸附剂用于清洗。
7.杀菌灭藻与污泥剥离剂
可以杀灭被清洗表面的菌藻,剥离微生物污泥的化学药剂,即为杀菌灭藻与污泥剥离剂。它有无机类的与有机类的,无机类的通常又是强氧化剂。
8.酶制剂
酶制剂是由动物、植物与微生物产生的,具有催化能力的蛋白质。在污垢的清洗中,它可以和有机污垢发生相应的生化反应,促进污垢的分解与脱落。例如把蛋白酶、脂肪酶、淀粉酶、纤维素酶等加入清洗液中,可加快相应污垢的清除。
产品:
系统清洗剂、预膜剂、缓蚀阻垢剂(固体)、粘泥剥离剂、杀菌灭藻剂、缓蚀阻垢着色剂(固体)、钝化剂、设备停用保养剂、发动机水箱保养剂、阻垢分散剂、缓蚀阻垢分散剂、快速杀生剂、中和剂、高效阻垢分散剂、杀菌灭藻粘泥防止剂、阻垢剂、闭路水缓蚀剂、铜缓蚀剂、阻垢分散剂、缓蚀阻垢剂、反渗透膜用阻垢分散剂、冷媒水系统缓蚀剂、采暖系统防失水剂、高效消泡剂、中央空调运行清洗剂、精密设备清洗剂、精密仪器清洗剂、中央空调系统清洗剂、空调翅片清洗剂、系列外墙除污清洗剂、高效金属清洗剂、系列重油污清洗剂、发动机水箱清洗剂、系列超声波清洗剂、饮水机除垢洗消剂、强力水基清洗剂、水塔清洗剂、机车车厢清洗剂、交通设施清洗剂、铝材专用清洗剂、模具专用清洗剂、轮船船舱清洗剂、光学镜片清洗剂、饮水系统专用清洗剂、膜用系列杀菌清洗剂、锅炉除垢剂、运行除垢剂、不锈钢设备除垢剂、热水器清洗除垢剂、快速除垢剂(固体)、开水器清洗除垢剂、中央空调快速除垢剂、卫生洁具清洗除污剂、安全强力除垢剂、施工机具清洗除污剂、中性除垢清洗剂、特种金属除垢清洗剂、特殊水垢预处理剂、积碳浸除剂、快速强力脱漆剂、导热油炉清洗剂、导热油炉强力清洗剂、饮水机除垢剂、太阳能水系统除垢剂、加湿器除垢剂、溴化锂机组内腔清洗剂、采暖系统清洗剂、带电清洗剂、碳污清洗剂、新型环保除氧剂、系列防锈剂、高效除锈剂、中性除锈剂、快速除锈剂、系列润滑冷却剂、系列缓蚀剂、系列民用清洗产品、油污洗净剂、软水剂、堵漏剂、阳离子杀菌消毒剂、阴离子杀菌消毒剂.
超强去油污表面活性剂:该产品作为除油剂原料是当今世界一流产品,适用于去除各种机械油脂、天然油脂,可在酸性、中性、碱性条件下使用。广泛应用于各种工业及民用清洗剂、洗涤剂(如车辆清洗剂、发动机清洗剂、硬表面清洗剂、抽油烟机清洗剂、地毯清洗剂、金属清洗剂、玻璃清洗剂、大理石清洗剂等)。
低泡除油专用表面活性剂:以天然油脂合成的异构醇醚,是一个具有98%生物可降解的新型、低泡、高效、环保型非离子表面活性剂。与各种表面活性剂、助剂、添加剂、溶剂配伍性好,耐酸、耐碱,抗氧化。适合常温(25~35℃)及高温(75℃)清洗。 清洗剂的构成
由表面活性剂(如烷基苯磺酸钠、脂肪醇硫酸钠)和各种助剂(如三聚磷酸钠)、辅助剂配制成的,在洗涤物体表面上的污垢时,能改变水的表面活性,提高去污效果的物质。按产品外观形态分为固体洗涤剂、液体洗涤剂。固体洗涤剂产量最大,习惯上称洗衣粉,包括细粉状、颗粒状和空心颗粒状等。液体洗涤剂近年来发展较快。还有介于二者之间的膏状洗涤剂,也称洗衣膏。各类合成洗涤剂有不同的生产工艺,其中以固体洗涤剂最为复杂。世界各国普遍生产空心颗粒状固体洗涤剂,采用高塔喷雾干燥法,其主要工序有料浆制备、喷雾干燥、风送老化和包装。液体洗涤剂制造简便,只需将表面活性剂、助剂和其他添加剂,以及经处理的水,送入混合机进行混合即可。
清洗剂使用技术要求
用于工业污垢清洗的化学制剂,一般应满足下述的技术要求。用于不同的清洗目的与清洗对象的清洗剂,对于这些要求可以有所侧重或取舍。
(1)清洗污垢的速度快,溶垢彻底。清洗剂自身对污垢有很强的反应、分散或溶解清除能力,在有限的工期内,可较彻底地除去污垢。
(2)对清洗对象的损伤应在生产许可的限度内,对金属可能造成的腐蚀有相应的抑制措施。
(3)清洗所用药剂便宜易得,并立足于国产化;清洗成本低,不造成过多的资源消耗。
(4)清洗剂对生物与环境无毒或低毒,所生成的废气,废液与废渣,应能够被处理到符合国家相关法规的要求。
(5)清洗条件温和,尽量不依赖于附力口的强化条件,如对温度、压力、机械能等不需要过高的要求。
(6)清洗过程不在清洗对象表面残留下不溶物,不产生新污溃,不形成新的有害于后续工序的覆盖层,不影响产品的质量。
(7)不产生影响清洗过程及现场卫生的泡沫和异味。
清洗剂配方
普通清洗剂
油基羟乙基咪唑啉 | 醋酸 | 甲基环己醇 | 矿物海豹油 | 醇醚AEO5-10 | 丁基乙二醇 |
28.2 | 9.5 | 15.9 | 18.9 | 7.6 | 19.9 |
注:为高浓度,可以用水稀释至10-30%,最终使用可以稀释200倍以上
低温金属清洗剂
OA-12 | 油基羟乙 基咪唑啉 | 丁二醇 | 二甲苯磺 酸钠(40%) | 烷醇酰胺6502 | 乙二胺四乙酸 | 水 | 异丙醇 |
5.0 | 1.5 | 5.0 | 10.0 | 2.5 | 0.5 | 73.0 | 2.5 |
洗发水
CAB | EGDS | 烷醇酰 胺6501 | 氯化钠 | AES铵盐 | K12铵盐 | 香精 | 聚季铵盐-10 | 硅油 | 水 |
5 | 2 | 1 | 0.6 | 28 | 28.4 | 0.6 | 0.4 | 4 | |
三、抛光液(工业硅溶胶)
硅溶胶为纳米级的二氧化硅颗粒在水中或溶剂中的分撒液。由于硅溶胶中的SiO2含有大量的水及羟基,故硅溶胶也可以表述为SiO2.nH2O。制备硅溶胶有不同的途径。最常用的方法有离子交换法、硅粉一步水解法、硅烷水解法等。这些方法所用的原料不同,所走的工艺路线不同,所产生的最终产品的性能与生产成本也不同。硅溶胶的离子交换工艺为美国的NALCO公司在上世纪40年代开发,后由美国杜邦公司等在五,六十年代完善,目前为最成熟也是最为广泛使用的工艺。该工艺对水玻璃、离子交换树脂等材料以及操作工艺有一定的要求,而这些正是国产品的弱势。相对来说,硅粉一步水解法的工艺比较简单,目前在国内被广泛使用。然而,用该法制备的硅溶胶通常颗粒大小在10-20纳米左右,颗粒间的界面不清晰,形貌为非球形且无法控制,颗粒间的界面不清晰,故通常只是被大量使用在铸造等行业,而在精密抛光,催化剂等许多要求更高的领域则无大建树。
与国际知名硅溶胶品牌相比,目前国产硅溶胶的主要缺点为杂质含量高、颗粒大小无严格控制、颗粒比表面不受严格检测、二氧化硅的浓度低、酸性或中性条件下稳定性差、使用周期短、或多或少带点颜色、品种少等等。
我公司的硅溶胶为全新的sol-gel 合成方法所制备,我们对该方法拥有自主的知产权。我们可以准确地控制硅溶胶的许多特性,如:颗粒形貌从球状到哑铃状或者链状,浓度最高可达到60%的固含量(一般情况下40-50%),颗粒大小从10纳米以下到微米级(一般为10-100纳米),各种杂质含量可以控制到ppb级或者100万分之一以下,SiO2颗粒的空隙率可大可小,分散媒体可以是水也可以是醇等非水溶剂,pH可以是中性也可以是酸性或碱性。与国际知名品牌相比,我们的硅溶胶产品更加价廉,性能同等或者更加优越。按种类归类,我公司所产的硅溶胶可以分为以下几类